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光纤激光打标机之激光掺杂过程解读

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光纤激光打标机气态杂质源激光掺杂和气相激光淀积的工艺过程和主要装置都很相似,都需要真空处理,都需要反应室及相应的贮气设备及抽送气系统等:正因为如此,激光束都必须加热衬底表面,使其温度足够高,否则,杂质掺杂速度会太慢。气相光淀积就不一样,如果属光化学分解淀积,衬底可以保持在相当低的温度,甚至可以在室温或更低的温度。

此外、激光掺杂中人们注意的是结探、薄层电阻、掺杂浓度分布等参数,掺杂过程中实时监控的是这些参数或与这些参数相关的物理量,对掺杂样品约分析也同样是着重于这些参数及其相关的物理量。气相激光淀积中人们关注的是淀积膜的厚度、杂质古量、附着强度等,激光打标机这自然使激光掺杂和激光淀积所用的在线测控设备及样品分析设备都大不一样。

光纤激光打标机近年来成为激光物理研究的一个热门,它被一致认为是有可能全面替代固体激光器的新一代产品。光纤激光器是指用掺稀土元素玻璃光纤作为增益介质的激光器,光纤激光器可在光纤放大器的基础上开发出来:在泵浦光的作用下光纤内极易形成高功率密度,造成激光工作物质的激光能级粒子数反转,当适当加入正反馈回路便可形成激光振荡输出。

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